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掃描電鏡分析樣品表面的深度是多少

 發(fā)布時(shí)間:2019/6/4 點(diǎn)擊量:2260
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詳細(xì)介紹:

近,有飛納電鏡用戶詢問關(guān)于電子束分析樣品時(shí)可以穿透樣品的深度的問題,這里小編將為大家詳細(xì)介紹一下。

 

掃描電鏡是利用聚焦電子束進(jìn)行微區(qū)樣品表面形貌和成分分析,電子從發(fā)射源(燈絲)經(jīng)光路系統(tǒng)終到達(dá)樣品表面,電子束直徑可到 10 nm 以下,場(chǎng)發(fā)射電鏡的聚集電子束直徑會(huì)更小。

 

聚焦電子束到達(dá)樣品表面會(huì)激發(fā)出多種物理信號(hào),包括二次電子(SE),背散射電子(BSE),俄歇電子(AE)、特征X 射線(X-ray)、透射電子(TE)等。

 

· 二次電子 信號(hào)主要來自樣品表面,其深度范圍 10 nm ,成像具有較高分辨率,能夠很好的反映樣品形貌特征。


· 背散射電子 是入射電子被樣品原子核反彈回來的部分電子,電子能量較高,信號(hào)深度范圍可到 2 μm。


· X 射線 可以從樣品較深的位置出射,其深度范圍可到 5 μm。

 

圖1 不同樣品信號(hào)深度

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